专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
专利下载VIP
公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
更多 »
专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
更多 »
钻瓜专利网为您找到相关结果1604301个,建议您升级VIP下载更多相关专利
  • [发明专利]透射显微图像畸变的表征方法及表征装置-CN201911403921.1有效
  • 张正飞;魏强民 - 长江存储科技有限责任公司
  • 2019-12-31 - 2023-03-21 - G01N23/2055
  • 本发明提供了一种透射显微图像畸变的表征方法。透射显微图像畸变的表征方法包括如下步骤:形成多个第一通孔组;获取样品在一第一参考倍率下的第一透射显微图像、以及第一目标倍率下的第二透射显微图像,第一目标倍率低于第一参考倍率;获取第一透射显微图像中每一第一通孔组内的两个第一通孔之间的第一参考距离、以及第二透射显微图像中每一第一通孔组内的两个第一通孔之间的第一目标距离;获取第一目标倍率下的透射显微图像相对于第一参考倍率下的透射显微图像的畸变信息。本发明可以获得在低于参考倍率的目标倍率下的透射显微图像畸变情况,操作简单、便捷。
  • 透射电子显微镜图像畸变表征方法装置
  • [发明专利]透射显微样品支撑膜和透射显微样品的制作方法-CN201110040813.X无效
  • 元冰;马余强 - 南京大学
  • 2011-02-18 - 2011-08-03 - H01J37/20
  • 本发明涉及透射显微样品支撑膜及透射显微样品的制作方法。所述透射显微样品支撑膜由多孔微栅支持膜基底和覆于基底上的单层氧化石墨烯薄膜组成,单层氧化石墨烯薄膜的覆盖密度为0.7×10-6~14×10-6mg/mm2多孔微栅,优选为0.7×10-6~3.5×该种单层氧化石墨烯薄膜可作为透射显微样品搭载膜来制作透射显微样品。本发明的有益效果是,设计和制备了一种新的透射显微样品支撑膜,具有比传统的碳支持膜更薄的厚度、更强的机械强度和更好的材料分散效果;用它来搭载材料进行材料的透射显微观察,可以获得更高的分辨率和清晰度
  • 透射电子显微镜样品支撑制作方法
  • [发明专利]一种基于计算机图像处理的大气粒子观察显微-CN202310634498.6在审
  • 陶星宇;汪小桐;郭浩然;吴昊 - 成都信息工程大学
  • 2023-05-31 - 2023-08-25 - G01N15/00
  • 本发明涉及大气观察设备技术领域,具体公开了一种基于计算机图像处理的大气粒子观察显微,包括:样品制备、透射显微观察、去模糊处理、误差补偿和调节倍数;本发明通过采用直接采样法,将大气粒子采样在铜网上,通过透射显微对铜网进行观察,形成透射显微图像,同时利用卷积神经网络对图像进行学习,通过生成对抗网络对透射显微图像进行去模糊处理,提高画面清晰度,同时利用误差补偿,对图像进行误差补偿,减小因透射显微本身的误差给观测结果带来的影响,此外通过计算机编程调节透射显微的提高倍率,来根据需要观察大气粒子的类型和数量,从而便于提高观察效率和准确性。
  • 一种基于计算机图像处理大气粒子观察显微镜
  • [实用新型]一种可加磁场的透射显微样品杆-CN202221786752.1有效
  • 肖旋 - 沈阳综科谱联科技有限公司
  • 2022-07-12 - 2022-11-29 - G01N23/04
  • 本实用新型公开了一种可加磁场的透射显微样品杆,包括前端细杆主体,前端细杆主体的一侧设置有样品杆头,样品杆头的顶部设置有样品上盖片,样品上盖片的底部设置有样品下盖片;该一种可加磁场的透射显微样品杆通过设置样品固定机构,通过转动样品固定板使得样品放置孔显露,讲样品放置在样品放置孔内部,再次转动样品固定板直至到样品放置孔顶部,通过拧紧固定板调节螺栓,将样品固定板固定在样品放置孔顶部,使得对样品进行固定,此时将该显微样品杆放入透射显微中,使得透射显微对样品观察口内部的样品进行观察,实现了该一种可加磁场的透射显微样品杆的样品固定功能。
  • 一种磁场透射电子显微镜样品
  • [发明专利]透射显微样品的制备方法-CN202310582106.6在审
  • 黄毅;陈胜;高金德 - 上海华力集成电路制造有限公司
  • 2023-05-22 - 2023-08-22 - G01N1/28
  • 本发明提供一种透射显微样品的制备方法,先对半导体衬底进行切割以切割出样片,样片包括掉落至半导体衬底的表面上的目标样品及半导体衬底的一部分;然后,将样片转移并固定至样品载网上;并沿样片远离目标样品的表面减薄样片,以形成透射显微样品,透射显微样品至少包括目标样品。由于在目标样品掉落至半导体衬底之后,将半导体衬底与其表面的目标样品一起转移并固定至样品载网,可以避免玻璃针二次提取可能带来的物理性戳伤,并且,由于是采用沿样片远离目标样品的表面减薄样片的方法来暴露出目标样品,进而形成透射显微样品,可以提高制备透射显微样品的成功率。
  • 透射电子显微镜样品制备方法

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

400-8765-105周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top